Huace 1400-XY 1400℃高溫原位光學位移加熱臺

價格僅供參考，如需獲取更詳盡的產品技術規格書、定制方案或應用案例，歡迎致電我司技術工程師

Huace 1400-XY 1400℃高溫原位光學位移加熱臺由華測儀器生產，可實現室溫至 1400℃穩定可控加熱，具備光學觀測兼容性。設備采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲加熱結構，搭配 PID 控溫算法與高準度 S 型熱電偶，確保溫度準確調控與長期穩定。配備 XY 雙向可調載樣臺，位移 ±6mm，精度 0.01mm，可在高溫過程中靈活調整樣品觀測位置，適用于材料科學、冶金、陶瓷、地質及半導體等領域，用于高溫下樣品相變、熱膨脹、燒結、熔化等過程研究。

主要技術指標

加熱方式：電阻加熱（高溫阻絲）

溫度范圍：室溫~1400℃

溫度穩定性：±0.1℃

溫度分辨率：0.1℃

升溫速率：1~150℃/min（可定點 / 程序段控溫）

控溫方式：PID準確控溫

載樣臺材質：陶瓷

可達樣品高度：4mm

樣品臺位移：X/Y 軸 ±6mm，精度 0.01mm

光路：反射光路

上視窗尺寸：Φ3mm

腔室環境：真空/惰性氣氛（Ar、N?）/大氣

外殼冷卻：循環水

選配：真空系統、定制水循環系統、定制軟件控溫系統